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晶片制造对洁净管路输送技术探讨

文章来源:未知 日期:2013-06-21

  近年来,半导体销售大幅增长,此晶片制造中设备需要的气体、纯水、化学品、冷却水都是通过管路输送的,优质的产品依赖于优质的动力源,为了满足工艺要求,必须充分考虑上述输送系统的运行稳定,输送介质的高质量。本文就是对这四个系统作一些探讨。

  气体输送系统

  随着科学技术的发展,线宽越做越小,其对气体纯度、颗粒度、杂质含量以及露点的要求也越来越高。各种线宽下对超纯氮气的要求。从施工方面来讲,管道焊接必须采用氩气保护自动轨道焊,通过气体保护,管道内表面的焊缝可以形成均匀的焊点,保证内表面粗糙度,同时因保护气体的存在,可以阻止氧化铁的形成。

  超纯水管道工程

  超纯水主要应用于半导体生产中圆片的清洗,且用量较大,其制程也较为复杂,为满足超纯水管道工艺对水质的要求,必须考虑输送材料、流速、合理的输送系统设计。在材料选择方面,广泛应用PVDF管和PVDF隔膜阀。PVDF耐温范围较大:耐震耐压,重量轻,与其它的聚合物相比,有突出的机械强度、硬度和抗蠕变性、优秀的抗化学性和抗析出性,不易产生细菌。另外回水管在考虑投资成本的情况下,可采用PPH管。

  冷却水系统

  半导体生产中,保证设备正常运行及节水目的。在冷冻水管上加调节阀,通过感应出水温度自动调节开度,来达到水恒温的目的。通过水泵的变频调节,保证输出压力,并达到节电的效果。另外为了保证水质,防止结垢,推荐使用纯水作为补充水。在出口加水过滤器,保证颗粒要求。同时为提高冷却效率,板式换热器及输送管材质选用不锈钢。

  以上输送系统对半导体生产有着至关重要的作用,我们需重视系统的各个环节,不断优化与改进系统,为圆片的高质量、高产量生产提供强有力的保证。

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